光化學(xué)反應(yīng)儀的應(yīng)用

　　光化學(xué)反應(yīng)儀系列主要用于研究氣相或液相介質(zhì)、固定或流動(dòng)體系、紫外光或模擬可見光照、以及反應(yīng)容器是否負(fù)載光催化劑等條件下的光化學(xué)反應(yīng)。具有提供分析反應(yīng)產(chǎn)物和自由基的樣品，測(cè)定反應(yīng)動(dòng)力學(xué)常數(shù)，測(cè)定量子產(chǎn)率等功能，廣泛應(yīng)用化學(xué)合成、環(huán)境保護(hù)以及生命科學(xué)等研究領(lǐng)域。
 

　　目前，各種干擾在各類工業(yè)現(xiàn)場(chǎng)中均存在，所以儀表及控制系統(tǒng)的可靠性直接影響到現(xiàn)代化工業(yè)生產(chǎn)裝置安全、穩(wěn)定運(yùn)行，系統(tǒng)的抗干擾能力是關(guān)系到整個(gè)系統(tǒng)可靠運(yùn)行的關(guān)鍵。隨著DCS、現(xiàn)場(chǎng)總線技術(shù)的應(yīng)用，被控對(duì)象和被測(cè)信號(hào)往往分布在各個(gè)不同的地方，并且他們與控制站之間也有相當(dāng)長(zhǎng)的距離，因此，信號(hào)線和控制線均可能是長(zhǎng)線。其次，現(xiàn)場(chǎng)往往有許多強(qiáng)電設(shè)備，它們的啟動(dòng)和工作將對(duì)測(cè)控系統(tǒng)產(chǎn)生強(qiáng)烈的影響。同時(shí)來(lái)自空間的輻射干擾、系統(tǒng)外引線干擾等問(wèn)題尤為突出。因此，除有用信號(hào)外，由于各種原因必然會(huì)有一些與被測(cè)信號(hào)無(wú)關(guān)的電流或電壓存在，這種無(wú)關(guān)的電流或電壓通稱“干擾(噪聲)”。在測(cè)量過(guò)程中，這些干擾若不能很好地處理，那它將歪曲測(cè)量結(jié)果，嚴(yán)重時(shí)甚至使儀表或計(jì)算機(jī)不能工作。
 

　　大量實(shí)踐說(shuō)明，抗干擾性能是各種電子測(cè)量裝置的一個(gè)很重要的問(wèn)題，尤其是DCS、現(xiàn)場(chǎng)總線技術(shù)的廣泛應(yīng)用和迅速發(fā)展，有效地排除和抑制各種干擾，已成為必需探討和解決的迫切問(wèn)題，因?yàn)楦蓴_不僅能造成邏輯混亂，使系統(tǒng)測(cè)量和控制失靈，以致降低產(chǎn)品的質(zhì)量，甚至使生產(chǎn)設(shè)備損壞，造成事故。因此，抗干擾技術(shù)在儀表測(cè)控系統(tǒng)的設(shè)計(jì)、制造、安裝和日常維修中都必需給予足夠的重視。